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On metastable properties of plasma treated amorphous Si:H films
Superficies y vacío 2001 (13)
E. Pineík ; M. Jergel ; C. Falcony ; L. Ortega ; H. Glesková ; J. Müllerová ; R. Brunner ; S. Mráz ; K. Gmucová ;
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Pineík, E., Jergel, M., Falcony, C., Ortega, L., Glesková, H., Müllerová, J., Brunner, R., Mráz, S., Gmucová, K., On metastable properties of plasma treated amorphous Si:H films. Superficies y vacío [en linea] 2001, (diciembre) : [Fecha de consulta: 24 de abril de 2019] Disponible en:<http://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201309> ISSN 1665-3521
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Versión 3.0 | 2018
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